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光刻系统的扫描方法和光刻系统.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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光刻系统的扫描方法和光刻系统.pdf

    本发明公开了一种光刻系统的扫描方法和光刻系统，涉及光刻技术领域，所述方法应用于光刻系统，所述光刻系统包括机台、工作台和数字微镜器件DMD，所述DMD设置在所述机台上，所述工作台用于设置被光刻对象，所述方法包括：控制运动主体进行运动，以使所述DMD与所述被光刻对象同时发生第一方向和第二方向上的相对运动，所述运动主体包括以下至少一种：所述DMD、所述机台和所述工作台。避免了现有方案中在需要更改清晰度时需要更换不同参数的DMD成本较高的问题，达到了可以通过调整运动主体的运动速度进而方便快捷的实现清晰度

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112764324 B (45)授权公告日 2022.08.23 (21)申请号 202110019610.6 审查员 孙宏 (22)申请日 2021.01.07

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