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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明公开了一种提高分子束外延束流特性的方法与装置,涉及分子束外延束源领域。束流的强度、稳定性和分布角度是束源的重要特性参数,且对晶体的外延生长有着非常重要的影响。本发明的主要装置包括:外套筒,内套筒,喷嘴。内套筒与外套筒之间形成缓冲腔,使束流通过缓冲腔之后再到达喷口,且可以通过调节装置的缓冲腔容积和缓冲腔入口面积等结构参数来优化束流强度、束流稳定性和束流分布角度。本方法及装置具有操作简单、普适性强、高效可控等优点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115747953 A
(43)申请公布日 2023.03.07
(21)申请号 202211244420.5
(22)申请日 2022.10.10
(71)申请人 电子科技大学长三角研究院(湖州)
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