溅射靶及其制造方法.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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本申请提供一种溅射靶,其为金属材料的圆筒形溅射靶且使颗粒减少。溅射靶为圆筒形溅射靶,且溅射靶至少具备靶材,靶材包含一种或多种金属元素,晶体粒径为10μm以下。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805401 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980061530.8 (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司

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