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用于惰性阳极镀覆槽的设备.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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用于惰性阳极镀覆槽的设备.pdf

    在一示例中，提供一种用于电镀晶片的电镀设备。该电镀设备包含：晶片支架，其用于在电镀操作期间保持晶片；以及镀覆槽，其被配置成在该电镀操作期间容纳电解液。阳极腔室被设置在该镀覆槽内，以及进料板被设置在该阳极腔室内。阳极被安置在该阳极腔室内的该进料板上方。在一些示例中，该阳极腔室为无膜阳极腔室。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805415 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980065942.9 (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263

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