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成膜装置.pdfVIP

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    本发明涉及一种抑制对准精度降低的成膜装置。本发明的成膜装置具备：容器；所述容器的外部的基座支承体；所述容器内的基板保持件；所述容器内的掩模保持件；基板保持件驱动机构；掩模保持件驱动机构；基板保持件驱动机构支承体，其与所述基座支承体连接；掩模保持件支承体，其与所述基座支承体连接，支承所述掩模保持件；所述基座支承体与所述基板保持件驱动机构之间的振动传递抑制构件；以及对准用相机单元，其设置于所述容器的外部且设置于所述掩模保持件支承体，用于测定基板与掩模的相对位置偏移。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112824554 B (45)授权公告日 2023.03.31 (21)申请号 202011292113.5 (51)Int.Cl.

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