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本发明公开了一种半导体炉管的清洗设备,包括支撑机构,所述支撑机构内侧设置有用于对半导体炉管进行支撑转动的转动机构,所述转动机构上侧设置有对半导体炉管内外壁进行清洗的清洗机构,所述转动机构、所述清洗机构一侧设置有提供动力的动力机构,所述动力机构与所述转动机构、所述清洗机构连接,所述转动机构、所述清洗机构与所述支撑机构连接。本发明通过动力机构动力的传递带动转动机构对半导体炉管的转动,以及清洗机构的外清洗管、内清洗管的同步移动,使半导体炉管在转动的同时对内外壁进行同步清洗,提高了清洗的效率和质量,简化
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112833679 B
(45)授权公告日 2022.01.25
(21)申请号 202011615757.3 审查员 姚丽华
(22)申请日 2020.12.30
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