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本发明涉及一种等离子体处理装置。具体而言，本发明提供如下一种等离子体处理装置，包括：腔室，其包括构成形成等离子体的区域的形成区域、构成利用所述等离子体处理基板的区域的处理区域、以及构成排出所述等离子体的区域的排出区域；卡盘，其具备用于安放所述基板的安放部；引导部件，其向所述处理区域引导在所述形成区域形成的所述等离子体，且包括具有规定直径的下端部；以及容器，其直径大于所述引导部件的下端部的直径，且包括向上下方向延伸的容器壁，当所述基板被搭载于所述安放部时，所述容器的下端与所述卡盘之间贴紧。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112820617 B
(45)授权公告日 2021.12.07
(21)申请号 202010853870.9 (51)Int.Cl.
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