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一种高纯度光学镀膜材料二氧化硅的制备方法，包括如下步骤：粗破碎‑输送‑精细破碎‑输送‑以一级磁选‑二级磁选输送带‑转运‑输送‑清洗‑三级磁选‑输送‑烘干。本发明所述的高纯度光学镀膜材料二氧化硅的制备方法，将石英原料分别经过一级破碎和二级精细破碎后，送入高精度智能化磁选机，通过磁选机三次，让磁选机中强大的磁场将废石英颗粒中含金属的颗粒吸附并排出，用高纯水清洗并除去漂浮物；将石英颗粒清洗后送入烘干箱，通过合理的工序设置，能够得到较高纯度的二氧化硅。生产工艺的自动化程度高，工作效率高，应用灵活。本发明
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112791825 A
(43)申请公布日 2021.05.14
(21)申请号 202011527690.8
(22)申请日 2020.12.22
(71)申请人 江苏微纳光膜科技有限公司
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