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- 2023-06-08 发布于四川
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本申请公开了一种清洁装置及CMP清洗设备，其中，所述清洁装置的多个凸起结构在本体的清洁面上按照特定的规则分布，具体地，所述凸起结构的分布密度自所述清洁面的预设区域向两侧延伸的方向上逐渐递增，以使改善对于晶圆预设区域的过清洗的状况，解决在CMP清洗工序中对晶圆的局部位置造成过清洗的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112864011 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202110002519.3
(22)申请日 2021.01.04
(71)申请人 长江存储科技有限责任公司
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