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- 2023-06-08 发布于四川
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本发明提供一种直接曝光装置和基板的曝光方法。能够良好地保持曝光区域的平面度，即使是焦点深度浅的曝光光学系统，也能够对可进行高分辨率的图案曝光的基板的两个面同时进行曝光。直接曝光装置具有：一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112859532 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202011296878.6
(22)申请日 2020.11.18
(30)优先权数据
2019-2139
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