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- 2023-06-08 发布于四川
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本发明涉及薄膜材料制备领域,尤其涉及一种微纳尺度三维图形化模板及功能薄膜的制备方法。所述制备方法包括以下步骤:利用磁控溅射法在衬底上制备非晶薄膜;将所述非晶薄膜放入离子注入系统,按照预设的离子注入样式进行离子注入图形化加工。本发明方法能够制备出起伏平滑的三维图形化模板,简单、经济、高效,并利用该衬底更好地制备具有三维图形化结构的薄膜材料,不仅极大拓展了基础研究空间,而且对薄膜材料表面图形化的实际应用有巨大的推进作用。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116219380 A
(43)申请公布日 2023.06.06
(21)申请号 202211559556.5 C30B 25/18 (2006.01)
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