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本发明实施例提供一种晶圆曝光修正方法及系统与存储介质。一种晶圆曝光修正方法，包括：获取曝光剂量分布图，曝光剂量分布图用于表征每一曝光单元与初始曝光剂量对应的曝光剂量修正系数；曝光处理步骤，基于曝光剂量修正系数对初始曝光剂量进行修正，获取修正曝光剂量，采用修正曝光剂量对待处理的晶圆进行曝光处理，获取处理后的晶圆中多个曝光单元的修正特征尺寸；更新步骤，基于曝光剂量修正系数与修正特征尺寸之间的对应关系，计算每一修正特征尺寸对应的曝光剂量修正系数，根据计算得到的多个曝光剂量修正系数更新曝光剂量分布图；重
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112859530 A
(43)申请公布日
2021.05.28
(21)申请号 20191
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