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高纯度低羟基高均匀性石英玻璃的化学沉积方法及装置.pdfVIP

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  • 2023-06-08 发布于四川
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高纯度低羟基高均匀性石英玻璃的化学沉积方法及装置.pdf

    本发明涉及一种高纯度低羟基高均匀性石英玻璃的化学沉积方法，包括：(1)在沉积腔体内，采用气相轴向沉积法将硅源沉积得到低密度SiO2松散体；在沉积过程中，控制沉积腔体内为负压环境，温度不高于500℃；(2)在充满脱羟气流和氧气的密闭环境中，将低密度SiO2松散体加热到1100～1300℃，使所述低密度SiO2松散体脱水、脱羟及致密化；接着，将低密度SiO2松散体置于惰性气体环境中，加热至1470～1600℃，使其玻璃化以形成透明石英玻璃；(3)对透明石英玻璃进行退火处理，得到高纯度低羟基高均匀性石

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112876044 A (43)申请公布日 2021.06.01 (21)申请号 202110150255.6 (22)申请日 2021.02.03 (71)申请人 江苏

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