一种实现均匀排气的双工位处理器及其排气方法.pdfVIP

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2023-06-09 发布于四川
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一种实现均匀排气的双工位处理器及其排气方法.pdf

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本发明公开了一种实现均匀排气的双工位处理器及其排气方法，该双工位处理器包括：两个相邻排列的等离子体处理腔室，以及一个共享的排气泵，每个等离子体腔室内设有一基座，每个等离子处理腔室内环绕基座的外围设有一限制环，限制环下方设有排气区域，限制环上设有若干气体通道，用于将气体排放至排气区域，排气泵与每个等离子体处理腔室的排气区域相互流体连通，该双工位处理器还包括一设置于限制环下方的旋转环，旋转环设有若干阻挡区域，若干阻挡区域与限制环的部分气体通道相对应，并且随着旋转环的转动，调整阻挡区域与气体通道的对应

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112908821 B (45)授权公告日 2023.03.31 (21)申请号 201911227802.5 H01L 21/3065 (2006.01) (22)申请日 2019.