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该发明涉及一种储液设备、晶圆处理装置以及供液方法，能够提高旋涂至目标表面的光阻层的质量，避免最终的光刻结果不佳，提高晶圆生产的良率。其中所述储液设备包括液体缓冲槽，用于盛装液体，还包括超声波震荡器，安装至所述液体缓冲槽，用于使所述液体缓冲槽内盛装的液体震动，以排出所述液体缓冲槽内盛装的液体内的气泡；所述超声波震荡器内设置有换能器，由所述换能器将超声波发射至所述液体缓冲槽内。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112916333 A
(43)申请公布日
2021.06.08
(21)申请号 20191
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