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本发明公开一种高通量薄膜的制备装置及方法，涉及高通量薄膜制备装置技术领域，主要结构包括样品台、多个溅射靶、纵向挡板和横向挡板；样品台设置于多个溅射靶的中部，并与多个溅射靶相隔一定距离；纵向挡板和横向挡板设置于样品台与多个溅射靶之间；纵向挡板和横向挡板均可沿水平方向平移，纵向挡板和横向挡板的移动方向相垂直。纵向挡板和横向挡板上分别设有一镂空孔，通过调整纵向挡板和横向挡板的位置，使两个镂空孔的交叉点处于样品台的不同区域，并通过改变各溅射靶的溅射功率，从而在样品台上不同区域溅射出不同成分的镀膜，从而对
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112962068 A
(43)申请公布日 2021.06.15
(21)申请号 202110135614.0
(22)申请日 2021.02.01
(71)申请人 北京中科泰龙电子技术有限公司
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