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本发明公开了一种双工位翻转抛光机的工件盘翻转装置，包括设在升降机构上由翻转驱动机构驱动可以翻转的具有两个工作面的翻转架、设在翻转架上位于每个工作面的若干组工件盘组件；每组工件盘组件包括由恒压驱动装置驱动沿所述翻转架上下运动且由旋转驱动装置驱动旋转的工件盘。本发明中的每组工件盘组件分别采用单独的恒压气缸对工件盘施加抛光压力，可使处于工作状态的各工件分别受到相同的压力，可以克服各工件盘之间因高度误差和平行度误差，无法使工件与抛光盘完全贴合进行抛光的缺陷，从而保证各工件抛光压力均匀、保证工件表面充分抛
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112917381 A
(43)申请公布日 2021.06.08
(21)申请号 202110095778.5
(22)申请日 2021.01.25
(71)申请人 宇环数控机床股份有限公司
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