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本发明涉及气相沉积技术领域，尤其涉及一种气相沉积镀膜系统，其包括第一电极组件，沿竖直方向设置；多个第二电极组件，沿竖直方向设置，且多个所述第二电极组件绕所述第一电极组件的周向间隔设置；治具，设置在所述第一电极组件和所述第二电极组件之间，在所述治具上插设有与所述治具相垂直的托盘，所述托盘上用于盛放待镀膜的工件；公转组件，用于驱动所述治具绕所述第一电极组件的中心转动；自转组件，与所述治具传动连接，用于驱动所述治具绕自身轴线转动。本发明能够保证成膜的均匀性，同时治具上的托盘便于拆装。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112921306 B
(45)授权公告日 2023.04.11
(21)申请号 202110075451.1 C23C 16/458 (2006.01)
(22)申请日 2021.0
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