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一种刻蚀偏差的计算方法以及计算系统，刻蚀偏差的计算方法包括：提供基底，包括待刻蚀层及位于待刻蚀层上的掩膜图形，基底包括待测量区域，待测量区域的掩膜图形包括多个第一待测量图形；获取第一待测量图形的光刻后线宽平均值；以掩膜图形为掩膜刻蚀待刻蚀层形成目标图形，与第一待测量图形对应的为第二待测量图形；获取第二待测量图形的刻蚀后线宽平均值；建立计算模型并获取第二待测量图形的实际刻蚀后线宽，计算模型包括线宽校正项，适于补偿待测量区域中不同位置的第二待测量图形的实际刻蚀后线宽与刻蚀后线宽平均值的偏差量；计算光
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112949236 A
(43)申请公布日
2021.06.11
(21)申请号 20191
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