工艺腔室的进气组件、进气装置及半导体加工设备.pdfVIP

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2023-06-10 发布于四川
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工艺腔室的进气组件、进气装置及半导体加工设备.pdf

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本发明实施例提供一种半导体工艺设备中工艺腔室的进气组件、进气装置及半导体加工设备，该进气组件用于将工艺气体输送至与工艺腔室连通的进气管中，进气组件中沿进气方向依次设置有多个混气腔，任意相邻的两个混气腔互相连通，进气组件包括进气接头，该进气接头与位于进气方向最上游的混气腔连通，位于进气方向最下游的混气腔与进气管连通。本发明实施例提供的半导体工艺设备中工艺腔室的进气组件、进气装置及半导体加工设备，可以对工艺气体进行充分混合和匀气，从而不仅可以提高工艺气体的组分分布均匀性，而且还可以减小进气管不同区域

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112941626 B (45)授权公告日 2022.07.22 (21)申请号 202110093628.0 C30B 29/36 (2006.01) (22)申请日 2021.01