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2023-06-11 发布于四川
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一种半导体设备L型真空阀门.pdf

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本发明公开了一种半导体设备L型真空阀门，包括阀板、运动件和运动导轨件，阀板与阀杆连接，阀杆与运动件连接；安装板内部设置有两条独立完整的气路，安装板的下部安装着第一气缸和第二气缸，两个气缸的气路通过安装板内部的两条气路连接贯通，气缸的内侧设置有机械限位气缸，第一气缸和第二气缸的活塞杆连接着底板，底板连接着两个运动导轨件，运动导轨件侧面设置有第一导轨槽，第一导轨槽与机械限位气缸配合进行限位，运动导轨件另一面设置有两个弧线槽，弧线槽与运动件上的固定件配合运动。本发明整体结构简单，部件损耗低，维护成本低

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112984210 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110428103.8 F15B 15/14 (2006.01)

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