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本发明公开了一种P型薄膜晶体管,包括衬底、栅电极层、栅介质层、沟道层、源电极层和漏电极层;其中,所述栅电极层形成于所述衬底表面;所述栅介质层形成于所述栅电极层表面;所述沟道层形成于所述栅介质层表面;所述源电极层和所述漏电极层均形成与所述沟道层表面,且所述源电极与所述漏电极之间具有间隔;所述栅介质层为固态质子导体材料;所述沟道层为碘化铜薄膜;本发明公开的P型薄膜晶体管具有有较好的稳定性,较高的载流子迁移率和开关流比,较低的阈值电压和亚阈值摆幅,本发明还公开了P型薄膜晶体管的制备方法和反相器,反相器
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113013253 B
(45)授权公告日 2022.06.28
(21)申请号 202110209509.7 (51)Int.Cl.
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