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基板处理装置的控制部执行以下工序：清洗工序，在将从由基板保持部保持的基板(清洗用基板)的上表面起至盖构件的下表面为止的上下方向距离设为第一距离的状态下，一边通过旋转驱动部使基板旋转，一边从清洗液供给部向基板的上表面供给清洗液，由此通过充满基板的上表面与盖构件的下表面之间的空间的清洗液来至少清洗盖构件的下表面；以及干燥工序，在清洗工序之后，在将所述上下方向距离设为比第一距离大的第二距离的状态下，停止从清洗液供给部供给清洗液，并通过旋转驱动部使基板旋转，由此至少使盖构件的下表面干燥。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112997277 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 201980073310.7 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事
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