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本发明的课题在于提供也适合于包含高温工艺的使用方式的半导体加工用粘合片。本发明的解决手段是提供包含构成粘合面的粘合剂层的半导体加工用粘合片。对于上述半导体加工用粘合片而言,一个方式中,常规剥离力Fda2为0.50N/20mm以下,所述常规剥离力Fda2利用以下方法测定:将上述粘合面贴附于硅晶片,进行175℃下、15分钟的加热处理及累积光量为1000mJ/cm2的紫外线照射处理后,在拉伸速度为300mm/分钟、剥离角度为180度的条件下测定剥离强度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112980344 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202011462347.X
(22)申请日 2020.12.11
(30)优先权数据
2019
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