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本发明涉及半导体技术领域，且公开了一种半导体废水脱氟处理装置，包括外壳，所述外壳外侧设有处理室；齿轮转动，转动组件同步转动，使转板进行间歇往复转动，引起卡框进行间歇上下移动，下插头远离下插座，上插头与上插座卡接，控制加两个加热器错开运行，有利于活性氧化铝层的重复使用，加热器运行，对活性氧化铝层进行烘干处理，使活性氧化铝层可得到循环利用，避免由于其吸附量过多影响其后续的吸附效果，有效提高废水脱氟处理效果，转板间歇往复转动带动两个卡杆进行间歇上下移动，引起两个限流杆错开挤压处理室分流管，自动控制废水
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112978844 B
(45)授权公告日 2021.09.28
(21)申请号 202110385593.8 C02F 101/14 (2006.01)
(22)申请日
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