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本发明提供提高对准精度的对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法。对准装置具备:第1照相机,拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记;第2照相机,具有与第1照相机不同的分辨率,拍摄对准标记;反射光取得用的第1光源,向对准标记照射光;透射光取得用的第2光源,向对准标记照射光;以及位置调整机构,基于由第1照相机或第2照相机拍摄由第1光源或第2光源照射了光的对准标记而得到的图像,调整基板与掩模的相对位置。使向对准标记照射光的光源在利用第1照相机取得对准标记的图像的情况下和利用第2照相机
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113005418 B
(45)授权公告日 2023.03.28
(21)申请号 202011483446.6 (51)Int.Cl.
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