透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备.pdfVIP

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2023-06-11 发布于四川
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透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备.pdf

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本发明提供一种透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备。一种透明导电性膜，是在透明膜的单面即I面，层叠硬涂层、在相反面即II面，层叠高折射率层及透明导电层而成，所述透明导电性膜中，所述硬涂层是包含含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)的成膜性成分、金属氧化物(B)及光聚合引发剂(C)的硬涂剂的硬化物，并且所述硬涂层的表面粗糙度Ra小于1.5nm，将在膜厚100μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜上使用所述硬涂剂形成有膜厚2μm的硬涂层的10cm×10cm的正方形的试验片在形成所述硬涂层后30分

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112992407 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202011435463.2 C09D 7/20 (2018.01) (22)申请日 20

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