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本申请公开了一种晶圆清洗装置，包括：可旋转的承载平台、可移动的喷头、输送管和控制器，该喷头包括多个喷孔，且该喷头设置于承载平台的上方，该输送管与喷头相连。该晶圆清洗装置中，承载平台，用于承载和固定待清洗晶圆；输送管，用于向喷头输送清洗液；喷头，用于在输送管输送清洗液时，通过多个喷孔向待清洗晶圆喷射清洗液；控制器，用于在喷头喷射清洗液时，控制承载平台旋转，并且控制喷头沿预设路径移动，该预设路径位于待清洗晶圆上方。该晶圆清洗装置可用于清洗采用绝缘衬底工艺的晶圆，避免在清洗过程中，晶圆上产生过量的电荷
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112974362 A
(43)申请公布日
2021.06.18
(21)申请号 20191
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