清洗装置、研磨装置.pdfVIP

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2023-06-12 发布于四川
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清洗装置、研磨装置.pdf

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一种清洗装置、研磨装置，清洗装置具备：清洗槽，该清洗槽划定对晶片进行清洗的清洗空间；晶片旋转机构，该晶片旋转机构配置在清洗槽的内侧，保持晶片并使晶片旋转；清洗部件，该清洗部件与晶片的表面接触并清洗晶片的表面，能够绕着在横向上延伸的中心轴线旋转，其轴线方向的长度比晶片的半径长；摆动机构，该摆动机构使清洗部件绕着位于清洗槽的内侧的摆动轴线摆动，从而使清洗部件从晶片的外侧的避让位置移动到晶片的正上方的清洗位置；第二清洗构件，该第二清洗构件清洗晶片的表面；以及第二摆动机构，该第二摆动机构使第二清洗构件绕

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113043158 A (43)申请公布日 2021.06.29 (21)申请号 202011560759.7 B24B 37/34 (2012.01)