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一种控制硒化镓单晶体解理面定向生长的方法,它涉及硒化镓单晶体生长的方法。它是要解决现有的硒化镓晶体的解理面的方向无法控制的技术问题。本发明的方法:先用垂直双温区管式电阻炉合成GaSe多晶,然后接着通过控制径向温度梯度、纵向温度梯度、石英管的转速和坩埚下降速率来调控GaSe单晶生长方向,进行晶体生长。本发明的方法可以根据需要调整解离层与坩埚纵向轴线的角度,利于器件制备时对晶体的切割,晶体利用率高,可用于晶体生长领域。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113046831 B
(45)授权公告日 2022.04.19
(21)申请号 202110230724.5 C30B 11/00 (2006.01)
(22)申请日
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