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本发明公开了一种真空处理系统、基台的驱动装置及其控制方法，该基台的驱动装置包括用于承载所述基台的支撑部件和至少两个驱动单元，所述驱动单元的驱动端与所述支撑部件连接，各所述驱动单元的驱动端与所述支撑部件的连接位置相对所述支撑部件的竖向中心线对称设置，以驱动所述支撑部件沿竖向升降。该驱动装置的结构设计能够提高晶片在真空处理系统的真空腔室竖直升降的可靠性，降低升降过程中偏斜的机率，精确控制晶片与喷头之间的间隙。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113053714 A
(43)申请公布日
2021.06.29
(21)申请号 20191
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