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本发明公开了一种镀膜治具、镀膜设备及镀膜方法，涉及玻璃镀膜技术领域。所述镀膜设备包括真空室、偏压电源及镀膜治具，所述镀膜治具包括金属本体，所述金属本体上设有仿形凹坑，所述仿形凹坑的内壁与镀膜工件的镀膜面相契合；真空室内设有工件架及靶源，所述镀膜治具连接于所述工件架，所述靶源正对所述镀膜治具；所述工件架连接所述偏压电源的其中一个电极，所述靶源接地或者连接偏压电源的另一个电极。本发明在镀膜时，镀膜工件的紧贴在仿形凹坑的内壁上，通入偏压电源后，能在镀膜工件的镀膜面上形成各处均匀的电场，膜层物质在电场作
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113061863 A
(43)申请公布日
2021.07.02
(21)申请号 20191
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