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本公开提供一种电极结构及其制备方法、显示基板、显示装置。所述电极制备方法包括:提供一衬底,所述衬底包括导电膜层;在所述导电膜层上形成平坦化层,在所述平坦化层上形成过孔;在所述过孔内形成过孔填充结构,所述过孔填充结构沿垂直于所述平坦化层方向的厚度等于所述过孔的深度;采用纳米压印工艺及干刻工艺,在所述平坦化层上形成电极层;所述电极层通过所述过孔填充结构与所述导电膜层电连接。本公开所述电极结构及其制备方法、显示基板、显示装置,能够减小电极层中各子电极单元之间的间隔与空隙,提高显示产品的PPI,增加显示
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113097420 A
(43)申请公布日 2021.07.09
(21)申请号 202110374368.4
(22)申请日 2021.04.07
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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