一种半导体激光器外延结构及其制备方法.pdfVIP

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2023-06-14 发布于四川
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一种半导体激光器外延结构及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种半导体激光器外延结构及其制备方法，该结构包括：相对设置的第一波导层和第二波导层、以及位于第一波导层和第二波导层之间的有源层；第一波导层包括：相对设置的第一波导膜层和第二波导膜层；位于第一波导膜层和第二波导膜层之间的横模调制层，第一横模调制层的折射率分别小于第一波导膜层的折射率和第二波导膜层的折射率。通过实施本发明，在第一波导层中设置第一横模调制层，第一横模调制层的折射率小于两侧波导膜层的折射率，由此，设置的横模调制层可以调制基膜及高阶模式分布，使得高阶模限制因子降低，抑制高阶模式

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113140965 B (45)授权公告日 2022.04.19 (21)申请号 202110424174.0 (74)专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理