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生成集成电路布局图的方法、集成电路器件和系统.pdfVIP

生成集成电路布局图的方法、集成电路器件和系统.pdf

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    一种生成IC布局图的方法包括：将第一有源区域定位在第二有源区域和第三有源区域之间；使第一有源区域与第一栅极区域至第四栅极区域相交，以限定第一反熔丝位和第二反熔丝位的栅极位置；使第一有源区域和第二有源区域之间的第一导电区域和第二导电区域对准，从而使第一导电区域与第一栅极区域相交，第二导电区域与第四栅极区域相交，以及使第一有源区域和第三有源区域之间的第三导电区域和第四导电区域对准，从而使第三导电区域和第四导电区域与第一栅极区域和第三栅极区域相交，或者使第三导电区域和第四导电区域与第二栅极区域和第四栅

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113128164 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 202011276793.1 (22)申请日 2020.11.16 (30)优先权数据 62/955,67

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