一种化学机械抛光液.pdfVIP

一种化学机械抛光液.pdf

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本发明提供一种化学机械抛光液，包括：水、研磨颗粒，钨的抛光促进剂、过氧化物稳定剂、过氧化物以及直链聚丙烯酸或其盐。本发明的抛光液可以有效降低芯片的表面缺陷，显著提高产品的良率，同时具有优异的钨的抛光速度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113122141 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 20191

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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