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本发明的课题是提供在光通信中使用的近红外光区域中是透明的、能够调整折射率、此外利用光刻、蚀刻等以往的半导体加工技术而能够容易地形成微细结构、固化后的耐光性、耐热性优异的反应性有机硅组合物。解决手段是一种反应性有机硅组合物,其含有下述(S)成分和(T)成分。(S)成分:由式[1]所示的二芳基硅酸化合物与式[2]所示的硅化合物的缩合生成物构成的反应性有机硅化合物。(式中,Ar1和Ar2各自独立地表示可以任意地具有碳原子数1~6的烷基作为取代基的苯基,X表示水解性反应基。)(T)成分:在具有2~100
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113166343 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 201980076624.2 (51)Int.Cl.
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