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本发明提供一种吸盘，所述吸盘包括：吸盘本体和密封圈；所述吸盘本体具有至少一个环形的卡槽，所述卡槽的两侧分别为真空吸附区，所述卡槽中设有所述密封圈，所述密封圈凸出于所述吸盘本体。现有技术中，设于吸盘本体边缘的为密封圈，导致硅片翘曲量比较大一般发生在边缘区域，而在本发明提供的所述吸盘中，密封圈的两侧均配置有真空吸附区，当吸盘本体尺寸一定时，相比于现有技术，相当于缩小了密封圈的半径以避让出吸盘本体的边缘区域用以设置真空吸附区，从而减小整体真空吸附区和硅片的半径差，因此能够保证对大翘曲硅片边缘进行正常吸
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113130365 A
(43)申请公布日
2021.07.16
(21)申请号 20191
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