光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法.pdfVIP

下载本文档

1
0
约6.02万字
约 54页
2023-06-15 发布于四川
举报
版权申诉

光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本申请涉及光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法。一种制造半导体器件的方法包括：在半导体基板上方形成包含光致抗蚀剂下层组合物的光致抗蚀剂下层；以及在所述光致抗蚀剂下层上方形成包含光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层。使所述光致抗蚀剂层选择性地曝光于光化辐射，并且使所述光致抗蚀剂层显影以在所述光致抗蚀剂层中形成图案。所述光致抗蚀剂下层组合物包含具有酸不稳定侧基的聚合物、具有交联基团的聚合物或具有羧酸侧基的聚合物、产酸剂和溶剂。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物、光活性化合物和溶剂。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113176708 A (43)申请公布日 2021.07.27 (21)申请号 202011301426.2 (22)申请日 2020.11.19 (30)优先权数据