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本发明描述将金属膜或层沉积到衬底上的气相沉积方法,例如,其中所述金属为钼或钨;所述方法涉及在还原气体(例如,氢气)及含氮还原化合物存在下将金属层从含金属前体气相沉积到衬底上。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113195783 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 201980083584.4 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限
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