- 1、本文档共14页,其中可免费阅读13页,需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供一种基于人工期望的目标图案掩膜优化方法,包括以下步骤:将目标图案转化为像素化图案并对其进行高频区域与高频点的提取,进一步构造基于人工期望的期望目标图案;将期望目标图案的数值作为晶圆电路板图像素化数值以构建代价函数和约束条件;根据所述约束条件对所述期望目标图案的掩膜数值进行更新。本发明在不改变电路主要特征的前提下把目标图案的高频信号拉低,使其低到一个可以补偿的范围,然后再对新的目标图案进行补偿,使图案的高频信号得以恢复,提高图像保真度,使得晶圆图案的图案误差和边缘放置误差均得到进一步减小
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113189845 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 202110103267.3
(22)申请日 2021.01.26
(71)申请人 武汉大学
地址 43
文档评论(0)