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本发明公开了一种具有过压排气机构的真空回流炉，包括主体机构和副体机构，主体机构的一侧设置有副体机构，当端盖与主体箱相互关闭时，将伸缩杆A挤压缩短，使得塞板与端口相接触，防止端盖与端口之间存在缝隙，同时当伸缩杆A缩短时，会使得气囊中气压增大，从而会将部分的气体输送至伸缩杆B内，使其慢慢伸长，再通过磁盘与磁柱之间的磁性连接，提高端盖与主体箱之间的紧密性，间接性提高整体的密封性，其次利用外界气体将鼓气垫圈鼓起，当膨胀到一定程度时，三组鼓气垫圈会慢慢挤压接触，实现主体箱与副箱体之间的空间密封，也能够提高
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113172292 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110438461.7
(22)申请日 2021.04.22
(71)申请人 吴俊东
地址 277
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