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本申请实施例公开了一种掩模板及掩模板使用方法。掩模板包括第一曝光区和第二曝光区，所述第二曝光区位于所述第一曝光区的任意侧；所述第一曝光区设置有用于形成第一功能膜层的第一预设图案，所述第二曝光区设置有用于形成第二功能膜层的第二预设图案，其中，所述第一曝光区与所述第二曝光区在不同时间段工作。通过在同一掩模板上设计不同功能膜层对应的曝光区，采用同一掩模板即可以完成不同功能膜层的图案化制作，可以解决现有的掩模板利用效率低、掩模板使用数量多、研发和生产成本高的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113189839 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 202110478312.3
(22)申请日 2021.04.30
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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