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本发明公开了一种适用于光谱法测量呼气痕量成份的方法和系统,方法包括:按照设置的抽真空处理方式对测量气室进行抽真空处理,使测量气室内的压力达到设置的进样前的压力阈值,所述抽真空处理方式包括对所述测量气室直接抽真空处理和对所述测量气室进行一次或多次清洗后再抽真空处理;按照设置的进样次数进行一次进样或者多次进样,本发明通过抽真空进样方式使测量气室原有气体去除到一个可控限值以下,使测量气室残留气体的影响降低到一个可控范围内,从而克服了呼气样本量少而无法完全置换测量气室原有气体的困难,并克服测量气室需要较
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113189023 A
(43)申请公布日
2021.07.30
(21)申请号 20201
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