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一种基板台及化学气相沉积设备.pdfVIP

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  • 2023-06-15 发布于四川
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一种基板台及化学气相沉积设备.pdf

    本实用新型涉及金刚石技术领域，尤其涉及一种基板台及化学气相沉积设备。该基板台包括基板台本体、两个以上凹槽和两个以上流体通道，各流体通道上设有阀门，各流体通道贯穿所述基板台本体与各凹槽相通。该化学气相沉积设备包括该基板台。本实用新型能够控制CVD金刚石生长过程中温差在接受范围，有利于CVD金刚石生长，减少生长出现异常的情况，得到的CVD金刚石产品质量高。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219174612 U (45)授权公告日 2023.06.13 (21)申请号 202320113988.7 (22)申请日 2023.01.16 (73)专利权人 上海晶世创新材料科技有限公司 地

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