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本发明公开了新材料生产领域的一种生产新材料用基片预处理设备，其主要包括内置超声波发射器的清洗盒，清洗盒的上端滑动安装有清理机构，所述清理机构用于清理清洗盒内清洗液液面悬浮的污物，沿着清理机构的滑动方向，在清理盒的一端还设置有污物收集桶和清洗液补充桶。本发明能够对悬浮在超声波清洗液液面上的污物进行自动清理，使其离开超声波清理盒中并自动向超声波清理盒中补液，保证超声波清理盒中的清理液充足且干净，避免污染基片，影响新材料的生产效率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113182270 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 202110546186.0 B08B 13/00 (2006.01)
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