半导体工艺配方中工艺参数值匹配方法及半导体工艺设备.pdfVIP

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2023-06-15 发布于四川
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半导体工艺配方中工艺参数值匹配方法及半导体工艺设备.pdf

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本发明公开了一种半导体工艺配方中工艺参数值的匹配方法及半导体工艺设备，方法包括：S1、选取特定工艺步骤涉及的第一、第二工艺参数，将第一、第二工艺参数值分别设置为第一、第二初始值；S2、判断基于当前第一、第二工艺参数值是否可以执行特定工艺步骤，若是则执行步骤S3，若否则执行步骤S4；按照第一预设规则调整第一工艺参数值并使第二工艺参数值保持不变，返回步骤S2；记录当前第一、第二工艺参数值；S5、将第一参数值设置为第一初始值，并按照第二预设规则调整第二工艺参数值；S6、判断第二工艺参数值是否达到了预设

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113192866 A (43)申请公布日 2021.07.30 (21)申请号 202110414141.8 (22)申请日 2021.04.16 (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司

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