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本发明的课题在于提供表面的耐盐水性和耐伤性优异并且在高温高湿环境下能够长期地维持低的水接触角的电介质膜、其制造方法和使用其的光学构件。本发明的电介质膜是在透明基板上具备的电介质膜，其特征在于，所述电介质膜具有至少1层低折射率层，所述电介质膜的最上层是含有SiO2、膜密度为92％以上的层，并且该最上层含有电负性比Si小的元素。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113196111 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 201980083534.6 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所
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