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本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法,能够进行基板面内的氟树脂膜的形成范围的调节。基板处理装置具备:疏水化处理部,其构成为进行疏水化处理,在该疏水化处理中通过疏水化处理用的疏水化气体的蒸镀来在基板的表面形成疏水化膜;紫外线照射部,其构成为通过向基板的背面中的去除区域照射紫外线,来去除在疏水化处理中形成于去除区域的疏水化膜;以及树脂膜形成部,其构成为在去除了疏水化膜后的去除区域形成氟树脂膜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113176709 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110054109.3
(22)申请日 2021.01.15
(30)优先权数据
2020-0097
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