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本发明公开了一种用于调节半导体衬底处理装置中的喷头的喷头调节机构包括：至少一个致动器组件，该致动器组件可动态地操作以相对于衬底基座的与所述喷头的面板邻近的上表面调节所述面板的平行度，该至少一个致动器组件中的每一个包括：压电叠堆；具有第一端和第二端的杠杆，该杠杆在第一端上机械地耦合到所述压电叠堆，并且在第二端上机械地耦合到所述喷头以使所述喷头沿至少一个倾斜方向移动，该杠杆可机械地操作以放大所述压电叠堆的位移；和杠杆枢转点，其耦合到所述杠杆并且位于所述杠杆的所述第一端和所述第二端之间。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113174586 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110242694.X
(22)申请日 2016.12.27
(30)优先权数据
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